-
1 reactive ion
Большой англо-русский и русско-английский словарь > reactive ion
-
2 reactive ion
-
3 reactive ion
-
4 reactive ion
хімічно активний іонEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > reactive ion
-
5 reactive ion
-
6 reactive ion
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > reactive ion
-
7 reactive ion
English-Russian dictionary of microelectronics > reactive ion
-
8 reactive ion etching
reactive ion etching reaktives Ionenätzen nEnglish-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > reactive ion etching
-
9 reactive ion milling
Большой англо-русский и русско-английский словарь > reactive ion milling
-
10 reactive ion milling
Англо-русский словарь технических терминов > reactive ion milling
-
11 reactive ion etching
Микроэлектроника: реактивное ионное травление -
12 reactive ion milling
Техника: реактивное ионное травление -
13 reactive ion-beam etching
Техника: реактивное ионно-лучевое травлениеУниверсальный англо-русский словарь > reactive ion-beam etching
-
14 reactive ion-beam oxidation
Универсальный англо-русский словарь > reactive ion-beam oxidation
-
15 reactive-ion beam
Микроэлектроника: пучок химически активных ионов -
16 reactive-ion etch resistance
Микроэлектроника: стойкость к реактивному ионному травлениюУниверсальный англо-русский словарь > reactive-ion etch resistance
-
17 reactive-ion etching
Микроэлектроника: реактивное ионное травление, РИТ -
18 Reactive Ion Etching
Универсальный русско-английский словарь > Reactive Ion Etching
-
19 reactive ion-beam etching
Optics: RIBEУниверсальный русско-английский словарь > reactive ion-beam etching
-
20 reactive ion-beam oxidation
Engineering: RIBOУниверсальный русско-английский словарь > reactive ion-beam oxidation
См. также в других словарях:
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion milling — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion sputtering — reaktyvusis joninis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion sputtering vok. reaktives Sputtern, n rus. реактивное ионное распыление, n pranc. pulvérisation ionique réactive, f … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion etch resistance — atsparumas reaktyviajam joniniam ėsdinimui statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etch resistance vok. Beständigkeit gegen reaktives Ionenätzen, f rus. стойкость к реактивному ионному травлению, f pranc. résistance au… … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion beam — reaktyviųjų jonų pluoštas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam vok. reaktiver Ionenstahl, m rus. пучок химически активных ионов, m pranc. faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam oxidation — reaktyvusis jonpluoštis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam oxidation vok. reaktive Ionenstrahloxydation, f rus. реактивное ионно пучковое оксидирование, n pranc. oxydation par faisceau d ions… … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
